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供貨種類(lèi).型號(hào)  列表

序號(hào)	內(nèi)容	型號(hào)	配置可選噴槍		備注
1	工業(yè)用品牌等離子噴涂設(shè)備	大功率SX-250型KW、150kw、中型80KW、50KW、小型30KW、10KW	國(guó)產(chǎn)	進(jìn)口	可根據(jù)用戶(hù)需要量身設(shè)計(jì)定做
2	環(huán)保真空等離子噴涂設(shè)備	SX-250型KW、150kw、80KW、50KW、30KW	國(guó)產(chǎn)	進(jìn)口
3	噴鍍膜耙材等離子設(shè)備	SX-250型KW、150kw、80KW	國(guó)產(chǎn)	進(jìn)口
4	醫(yī)學(xué)界實(shí)用等離子設(shè)備噴涂羥基磷灰石涂層-鈦基牙種植體	SX-80KW、50KW、30KW、	國(guó)產(chǎn)	進(jìn)口
5	醫(yī)學(xué)界實(shí)用人工關(guān)節(jié)表面真空等離子	噴涂Ti、HA涂層 SX-80KW、50KW、30KW、	國(guó)產(chǎn)	進(jìn)口
6	噴金銀等離子設(shè)備	SX-Y50KW、Y30KW	國(guó)產(chǎn)	進(jìn)口
7	等離子粉末高頻熔焊機(jī)	SX-60B	國(guó)產(chǎn)	進(jìn)口
8	等離子系統(tǒng) (制作球化粉體)設(shè)備和技術(shù)	80KW  150KW

 

  

設(shè)備簡(jiǎn)介：

 

耙材噴涂生產(chǎn)線 及 制粉系統(tǒng)

等離子噴靶材鉻靶、鈦靶、硅鋁靶設(shè)備

供應(yīng)生產(chǎn)線--鍍膜靶材噴涂及先進(jìn)的制造設(shè)備技術(shù)

生產(chǎn)線---鍍膜靶材噴涂及制造設(shè)備技術(shù)特點(diǎn)：
應(yīng)用于玻璃鍍膜（建筑玻璃和汽車(chē)玻璃）工業(yè)
產(chǎn)品遠(yuǎn)銷(xiāo)東南亞等地與廣大客戶(hù)建立了良好的合作關(guān)系。優(yōu)良的產(chǎn)品質(zhì)量和及時(shí)的服務(wù)為企業(yè)贏得了良好的口碑。目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，較之較早點(diǎn)的蒸發(fā)鍍膜方式，其很多方面的優(yōu)勢(shì)相當(dāng)明顯。作為一項(xiàng)已經(jīng)發(fā)展的較為成熟的技術(shù)，磁控濺射已經(jīng)被應(yīng)用于許多領(lǐng)域。

磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場(chǎng)，同高壓電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng)。在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負(fù)高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設(shè)備原理簡(jiǎn)單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導(dǎo)電材料外，也可濺射非導(dǎo)電的材料，同時(shí)還司進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻

生產(chǎn)線---鍍膜靶材噴涂及制造設(shè)備技術(shù)構(gòu)成：   

采用等離子噴涂   （提供 SX~R全自動(dòng)噴砂設(shè)備、SX~30KW全自動(dòng)噴涂設(shè)備、系列配置靶材噴涂硅鋁粉制設(shè)備及工藝、噴涂房配置設(shè)計(jì)等先進(jìn)方案）

生產(chǎn)線---鍍膜靶材噴涂及制造設(shè)備技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域：
 

本公司采用等離子噴涂生產(chǎn)靶的方法，專(zhuān)業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售真空磁控濺射靶材，應(yīng)用于玻璃鍍膜（建筑玻璃和汽車(chē)玻璃）工業(yè)等行業(yè)，主要靶材包括：鉻靶、鈦靶、硅鋁靶等，

本公司可根據(jù)客戶(hù)要求研發(fā)出能滿(mǎn)足客戶(hù)要求的各種靶材噴涂制造技術(shù)并提供：

噴涂工藝

*鉻靶、鈦靶、硅鋁靶的噴涂制造技術(shù)方案

*鉻靶、鈦靶、硅鋁靶的噴涂工藝和參數(shù)

*鉻靶、鈦靶、硅鋁靶的噴涂技術(shù)工人培訓(xùn)

*靶材等離子噴涂制造的生產(chǎn)線交鑰匙工程

*管靶噴涂制造的各種工裝、夾具的設(shè)計(jì)和加工

*靶材等離子噴涂粉的選型、配比、制粉工藝

*靶材等離子噴涂制粉設(shè)備交鑰匙工程

 

生產(chǎn)線---鍍膜靶材噴涂及制造設(shè)備技術(shù)加工系列：
 

磁控濺射鍍膜靶材：金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷濺射靶材，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，砷化鉛靶材(PbAs)，砷化銦靶材(InAs)。

高純高密度建設(shè)靶材有：濺射靶材（純度：99.9%-99.999%）

金屬靶材：鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。

 

噴涂房     （隔音標(biāo)準(zhǔn)化、環(huán)保生態(tài)化、人性化、產(chǎn)量化高）

                                                     靶材真空噴涂產(chǎn)品 生產(chǎn)線

噴涂樣品：